有關XRF的常見術語和問答3

和峰

和峰(Sum Peak)是由于2個光子正好同時撞擊探測器而產生的偽峰。這2個光子被探測器捕獲,被識別為1個光子,如果2個光子能量相同,則和峰是正常能量的二倍。在具有高元素濃度的XRF光譜中更突出,可以通過降低計數率來降低和峰。

逃逸峰

由于探測器中物質(如Si)吸收光子的一些能量而引起的偽峰(E觀察到E入射 - E Si,E Si1.74 keV)。當進入探測器的X 射線光子能量高于探測器物質的吸收限能量時,因該物質對本身被激發的特征X 射線呈現出高度的透明,而導致這部分能量的逃逸,結果在能譜上除了入射X 射線的主峰外,還會在較低能量位置出現一個逃逸峰(Escape peak),在具有高濃度元素和低Z元素的XRF光譜中更突出。

逃逸峰高度約為主峰的1/ 1000 2/100,通常僅在強度取對數坐標的譜圖中明顯可見,而且原子序數大于30 的元素已基本不存在逃

光譜干擾

光譜干擾是在光譜中與待分析的元素的譜峰(感興趣區域)重疊的峰。如: K線和L線重疊:SK線和MoL線,ClKRhL線,AsKPbL線等;相鄰元素重疊:AlSi,SCl,KCa等。探測器的分辨率決定重疊程度。





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能量分辨率

能量分辨率Energy resolution)是指,針對兩種不同能量的入射粒子,探測器所能夠測定最小的能量間隔。能量分辨率定義為FWHM(全能峰高度一半處的峰寬度)與峰位能量的比值,或直接用FWHM表示,但需指明峰為能量。它表征了探測器對不同能量射線的辨能力,因此是譜儀探測器最重要的性能指標。

能量分辨率與產生一個電子一空穴對所需的能量、入射粒子的能量等有關,還受探測器材料的反向漏電流、結電容、溫度、電子學噪聲和反向偏壓等因素的影響。實際測得的能量分辨率與探測器輸出信號的產生、傳遞、轉換、放大與收集等過程有關。若有用信號越強,干擾因素越弱,則能量分辨率越好。

基體效應

基體(Matrix)是樣品中不包括分析元素本身的其他組成。

基體效應(Matrix Effects)就是樣品的基本化學組成和物理化學狀態差異對分析線強度的綜合影響。

基體效應通常分為二類,吸收增強效應和物理化學效應。




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